上海医用超纯水机耗材市场,上海医用超纯水机耗材市场地址

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1. 中国光刻机的研发之路？

中国光刻机的研发之路？

1***4年9月、1***5年12月、1***7年1月先后召开关于全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议。在这三年期间中国成功研制出了分布重复式光刻机、电子束曝光机，超纯水处理系统等一流水平的半导体设备。

中科院半导体研究所1***8年开始研制半自动接近式光刻机，1981年研制成功。中科院45所1985年研制出了分布式光刻机。这台分布式光刻机是中国光刻机的标杆也是中国光刻机的绝唱。

世界上第一个晶体管

1958年我国第一枚锗晶体管试制成功。

1961年我国第一个集成电路研制课题组成立。

1962年我国第一代硅平面晶体管问世。

1965年，我国第一块集成电路在北京、石家庄和上海等地相继问世。其中包括中国科学院半导体研究所、河北半导体研究所(简称13所)、北京市无线电技术研究所(简称沙河器件所)等。

1982年科学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年，而且从jkg系列至今仍再销售的情况来看，都具有不错的使用价值。

1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平。如果资料没有错误，这应当是中国第一台分步投影式光刻机，***用的是436纳米G线光源。按照这个时间节点算，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年(美国是1***8年)。

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